采用直流脉冲磁控溅射的方法，在有机玻璃上沉积了纳米 TiO₂ 光学薄膜。研究了沉积功率、基片温度等参数对 TiO₂ 薄膜结构及光学性能的影响。借助椭圆偏振光测试仪、X射线光电子能谱仪（XPS）、X射线衍射仪（XRD）、分光光度计、原子力显微镜（AFM）等表征手段分析了薄膜的光学特性、元素组成、结晶性能及显微结构。结果表明：随沉积功率的增加，薄膜氧含量降低，粒径减小，折射率递增，可见光波段的透过率和反射率递减；随基片温度上升，薄膜的沉积速率降低，这促进了薄膜粒子的聚集，在光学方面表现为随温度上升，折射率及可见光透过率同时增加；TiO₂ 薄膜的禁带宽度在3.12~3.16eV 之间，随沉积功率增加和基片温度上升，其禁带宽度递减。