在卷绕蒸镀设备生产过程中，电子束引起的较高能二次电子会影响复合集流体的质量。较高能二次电子的发射率与电子束的入射角在一定范围内成正比，因此利用额外磁场可以使电子束轨迹发生偏置，从而减小入射角。本文依靠仿真软件及 CAD 建模技术对电磁偏置线圈进行了开发设计，通过参数优化，得到匹配的磁场强度以及电子偏置轨迹，成功完成电子偏置线圈的设计。同时对电磁线圈参数对偏置的影响进行了对比分析。结果表明：增加电磁线圈的电流、匝数、尺寸、数量，以及减少线圈与电子枪的距离，都能减少电子束偏置半径。通过优化这些参数可以得到预定入射角度，实现低的二次电子发射率，为将来设备的迭代升级提供设计依据。