不同温度下氮化铬薄膜的疏水性能研究*

作者:赵祯赟1,陈定君2,郭圆萌1,杨皓1,东帅1,孙铁生1,黄美东1 (1. 天津师范大学物理与材料科学学院,天津300387;2. 重庆公共运输职业学院,重庆402247)

关键词:氮化铬薄膜;温度;疏水性能;力学性能

摘要:

利用电弧离子镀膜技术,以硅片、不锈钢、玻璃片为基底,在脉冲偏压分别为50V、100V、150V的条件下制备了三组氮化铬薄膜样品,对其物相、表面形貌、力学性能及不同温度下的疏水性能进行了分析研究。结果表明:所制备薄膜样品组分单一,表面存在些许“大颗粒”,当脉冲偏压为100V 时“大颗粒”数量最多;氮化铬薄膜力学性能优良,150V 脉冲偏压下沉积的薄膜具有较高的硬度和杨氏模量,50V 脉冲偏压样品具有较高的膜基结合力;常温(20℃)下薄膜疏水性均较好,基底材料对疏水性能影响不大;各组薄膜疏水性能随环境温度的增加而降低,当环境温度上升至80℃ 时脉冲偏压为50V 的薄膜丧失疏水性能, 脉冲偏压为100V 的薄膜样品疏水性能整体较优。

全文:

PDF地址

---------------------沈阳真空杂志---------------------


长按识别二维码关注我们


地址:沈阳市沈河区万柳塘路2号 邮编:110042
电话:(024)24134406 24110136 24121929
传真:(024) 24121929 E-mail:zkzk1964@126.com
Copyright @ 2018 vacuumjour.com Inc. All rights reserved.
<<真空>>杂志社 版权所有