为改善锂离子电池用镀铜复合集流体的电学性能，通过控制卷绕磁控溅射走带速度、阴极功率、工艺压强、线性离子源前处理参数、NiCr 打底层厚度等工艺条件，在有机基材表面沉积铜膜，通过四探针方阻测量仪测定镀铜层方阻值，得到了不同工艺参数对镀铜层方阻的影响规律。结果表明：随走带速度增加，方阻值呈二次方增大；随阴极功率增加，方阻值呈幂次方降低；工艺压强0.13~0.45Pa 范围内，方阻值在0.2Pa 时达到最低；离子源电流0~0.7A 范围内，方阻值随离子源电流增大线性降低；NiCr 打底层能够改善镀铜层的方阻，6.7nm 厚的NiCr 打底样品较无打底层样品方阻值降低23.2%。