采用脉冲激光沉积法（PLD）在玻璃衬底上沉积CuO薄膜，研究了氧气压强对CuO薄膜结构和光学、电学性能的影响。结果表明：在氧压为3×10^-3Pa，3~5Pa，和8~12Pa时，沉积的薄膜分别为单一Cu₂O相、混合Cu₂O/CuO相和单一CuO相；当氧压从5Pa增加到8Pa时，CuO薄膜的取向从（111）变化到（002）；霍尔测试表明，在3~5Pa下沉积的CuO薄膜为p型，而在8~12Pa下沉积的薄膜为n型；氧气压强为5Pa时，薄膜电阻率较小，载流子浓度最大。