采用磁控溅射技术在Zr/ZrVFe 多孔吸气剂表面制备不同厚度的Ni 膜，研究了Ni 膜对吸气剂吸气性能的影响，利用SEM 和EDS 技术分析了吸气剂表面形貌及元素组成，通过定容法研究了吸气剂室温吸气性能。结果表明：吸气剂激活过程中，H₂O、CO₂ 和CO/N₂ 在350℃以下就已脱附；当激活温度达到350～450℃时，脱附气体只剩H₂ 和CH₄，CH₄ 为吸气剂脱附产生的H₂ 与四极质谱计灯丝发生反应所得；制备的Ni 膜均匀覆盖在吸气剂表面，不会改变吸气剂的表面形貌；进行Ni 膜表面改性后，吸气剂的吸气容量明显增大，且镀膜2h 所得吸气剂的平衡压最小，吸附性能最好。