磁过滤真空阴极弧沉积（FCVAD）技术制备的 CrCN 薄膜具有优异的机械性能，可作为表面改性膜应用于纺织器材、pcb 钻头和活塞环中。本文针对薄膜因摩擦产生高温或应用环境温度高，其结构和性能将发生变化的情况，研究了 CrCN 薄膜的热稳定性。通过 X 射线衍射（XRD）、场发射扫描电子显微镜 （FESEM）、拉曼光谱（Raman）和 X 射线光电子能谱（XPS）对常温至 800℃下薄膜的结构进行了表征。结果 显示：FCVAD 技术制备的 CrCN 薄膜热稳定上限温度约为 400℃。温度在 400℃以下时，CrCN 薄膜结构稳定，保持无序状态；当温度达到 500℃时，薄膜表面出现细小晶粒，薄膜中的 CrN 相转化为 Cr₂N 相；随着温 度继续升高，CrCN 固溶相开始石墨化，薄膜内晶粒尺寸变大；当温度大于 700℃时，薄膜中的碳以 CO 或CO₂ 的形式脱离薄膜，Cr 元素以 Cr₂O ₃ 相的形式存在，并在 800℃长成尺寸约 400nm 的晶粒。