作者:辛先峰 ¹,刘林根 ¹,林国强 ¹,董 闯 ¹ ²,丁万昱 ²,张 爽²,王棋震 ²,李 军 ²,万 鹏 ³ (1.大连理工大学,辽宁 大连 116024;2.大连交通大学,辽宁 大连 116028;3.佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司,广东 佛山 528300)
关键词:Zr 基非晶合金;薄膜;磁控溅射;不粘性;耐蚀性
非晶薄膜由于其优异的性能而被广泛研究,如不粘性和耐腐蚀性,这对于大块金属玻璃形成能力强的Zr55Cu30Al10Ni5成分来说尤为突出。本文以 Zr55Cu30Al10Ni5 块状金属玻璃为靶材,通过直流磁控溅射制备非晶合金薄膜,研究了不同溅射功率对薄膜力学性能、不粘性、耐蚀性和表面粗糙度的影响。结果表 明,在磁控溅射功率为 75~165W 的范围内,可以获得高质量的非晶态薄膜,其硬度达到 ~9.2GPa,弹性模 量 ~164GPa,硬弹性比 ~0.055,自腐蚀电流密度 ~1.16μA·cm-2,自腐蚀电位 -241.27mV,最大润湿角 104°。 这些性能数据与文献报道的接近,硬度甚至更高,证实该薄膜具有用于不粘和抗腐蚀方面的良好潜力。