采用钨坩埚和电子束蒸发设备蒸镀金属银薄膜时，银在熔融状态下和钨坩埚是浸润的，坩埚内熔融金属的液面呈凹陷形状。这类凹陷形状的蒸发源，常常会导致被沉积薄膜的均匀性变差。根据固体表面微结构会改变液体与固体接触角的理论，本文尝试用化学腐蚀的方法在光滑平整的钨坩埚内壁上加工 出沟槽阵列，来改变熔融金属材料与钨坩埚内壁的接触角，从而改变液态银与钨坩埚壁的浸润性。结果表 明，当沟槽宽约 1mm，深约 0.5mm，周期约 2mm 时，熔融的金属银和钨坩埚内壁不再浸润。用改造前和改造后的钨坩埚分别蒸镀厚度 100nm 的银膜，发现改造后的钨坩埚可以有效提高蒸镀薄膜的均匀性。