过渡层是改善膜基关系，提升薄膜质量的关键因素。本文针对常见过渡层材料 Cr 的外延生长过程进行了分子动力学模拟。通过对沉积过程中薄膜的表面形貌、粗糙度、径向分布函数以及膜基结合强度进行分析，研究了入射能量对薄膜质量的影响。结果表明：沉积初期，膜基界面相互作用是影响薄膜生长方式的主要因素；随入射能量升高，表面粗糙度上升，薄膜由层状生长转变为岛状生长；随沉积过程进行，低能沉积（15~50eV）时薄膜表面粗糙度逐渐升高，而高能沉积（75eV）时在刻蚀作用下表现出相反趋势，表面粗糙度逐渐降低；同时，较低能量范围沉积时膜基界面在浅注入作用下被破坏，削弱了膜基结合强度；进一步提高沉积可通过形成成分梯度层，改善膜基结合效果。本文的研究结果对于薄膜沉积过程具有重 要指导意义：镀膜过程中提高入射能量并不一定能起到积极效果，沉积粒子能量必须控制在合适的范围。