通过磁控溅射氧化锌陶瓷靶材的方法在玻璃基片上制备 ZnO 薄膜，研究了溅射功率、溅射气 压以及基片温度对 ZnO 薄膜相结构、禁带宽度及光学性能的影响。使用 X 射线衍射仪（XRD）分析了薄膜相结构，使用台阶仪测试薄膜厚度，采用薄膜测试仪测试薄膜的透过率，采用扫描电镜（SEM）观察薄膜表面形貌。结果表明：不同制备条件下均形成具有（002）择优取向的 ZnO 薄膜；工艺参数主要对薄膜的透过率造成影响；溅射功率的大小影响生成薄膜的完整性。