采用中频磁控溅射方法，在氧化铟（ITO）玻璃上采用氧化钨（WO₃）陶瓷靶沉积薄膜，研究溅射气压对 WO₃ 薄膜结构与光学性能的影响规律，并对其电致变色行为进行了探讨。采用 X 射线衍射（XRD） 和扫描电子显微镜（SEM）分析了 WO₃ 薄膜的成分结构和表面形貌，紫外可见分光光度计和电化学工作站对薄膜的光调制性能、电致变色伏安特性、以及循环寿命性能进行了研究，并利用 X 射线光电子能谱 （XPS）对 WO₃薄膜在着色、褪色状态下进行了化学成分及氧化状态分析。结果表明：随着溅射气压的增 大，WO₃薄膜的形貌结构变得疏松、粗糙，更有利于 Li+ 的注入与脱出，响应速度变快、调制幅度增大、电 致变色性能优异，但循环寿命性能有所降低。当溅射气压为 4Pa 时 WO₃ 薄膜的电致变色综合性能最好， 在 550nm 处的调制幅度可达 81.0%，着色、褪色响应时间分别为 7.8s、5.85s，且在 1500 次循环后，仍保持较高的电致变色性能。