真空杂志

利用遗传算法定量分析 Ni/Cr 多层膜俄歇深度谱 *

作者：李静 ¹，谭张华 ²，刘星星 ¹，陈颖琳 ¹，李豪文 ²，杨浩 ³，王昌林 ²，王江涌 ¹，徐从康¹ （1.汕头大学理学院物理系，广东汕头 515063；2.汕头大学理学院数学系，广东汕头 515063； 3.汕头大学理学院化学系，广东汕头 515063）

关键词：Ni/Cr 多层膜;深度剖析定量分析;MRI 模型;遗传算法;TV-Tikhonov 正则化方法;卷积;反卷积

摘要：

在 MRI 模型框架下，将遗传算法与卷积及 TV-Tikhonov 正则化反卷积方法结合，对 Ni/Cr 多层膜样品在旋转和非旋转条件下测量的俄歇（AES）深度谱进行了定量分析，确定了膜层间的界面粗糙度，重构的原始膜层结构与高分辨透射电镜测量的结果非常好的吻合。

全文：

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