为了研究蒸发速率对 ZnS 薄膜的折射率、表面形貌和应力等性能的影响，本文采用电子束蒸发 技术进行了 ZnS 薄膜的制备。首先在 K9 玻璃基片上镀制薄膜，采用分光光度计进行透射率曲线的测试， 利用光谱反演法得出薄膜的折射率，采用原子力显微镜表征了样品的表面形貌。最后在聚酰亚胺基底上 镀制薄膜，利用 Stoney 公式计算出薄膜的应力。结果表明，随着蒸发速率的增加，薄膜折射率先增大后减 小，在 2000nm 波长处薄膜的折射率最大值为 2.21，最小值为 2.07。蒸发速率越大，薄膜样品表面结构越疏松。不同蒸发速率下制备的薄膜均呈现压应力，增大蒸发速率可以显著降低薄膜应力。ZnS 薄膜的性能受蒸发速率影响显著，蒸发速率为 1.5nm/s 时折射率可达到最大值，蒸发速率为 2.5nm/s 时薄膜应力最小。