作者:王 坤¹ ²,王世庆¹,李 建²,但 敏 ¹,陈伦江 ¹(1.核工业西南物理研究院,四川 成都 610041;2.内江师范学院,四川 内江,641100)
关键词:磁控溅射;核聚变;均匀性;防咬死;管内壁;管外壁
为了研究磁约束聚变装置支撑装置紧固件的螺母和螺栓表面防咬死涂层的均匀性,利用磁控 溅射技术在管形器件的内表面和外表面制备了铜膜,应用台阶仪进行薄膜厚度测试。采用矩形铜板作为磁控溅射靶,采用单自转和公转加自转两种方式进行沉积,分析了铜膜在管形器件的内表面和外表面的膜厚分布规律。结果表明:无论螺母还是螺栓,公转加自转相对于单自转制备薄膜的均匀性都更好,随着孔(管)径的变小薄膜厚度变大。