为了改善电弧离子镀薄膜表面存在的大颗粒污染问题，在真空室内附加一个与靶 - 基连线垂 直的偏置电场，探究不同偏置电压对薄膜表面形貌、微观结构和力学性能的影响规律。结果表明，不同电压下 TiN 薄膜均呈晶态，沿（111）晶面择优生长，薄膜的微观结构受偏置电场的影响很小。随偏置电压增大，薄膜的结合力、显微硬度呈现先增后减趋势，在 24V 时均达最大值，电压进一步增大到 32V 时，结合力和显微硬度反而有少许下降。偏置电场可以有效改善薄膜表面形貌，当电压为 32V 时，薄膜表面质量最好，摩擦因数仅为 0.115。