采用直流反应磁控溅射法，通过改变反应气体 N₂ 分压 （5%、10%、20%、30%、40%、50%、 60%），在 SiO₂/Si（111）基片上制备 ZrN 薄膜。利用 XRD、SEM、EDS 分析了薄膜的物相、结构、形貌以及成分，使用分光光度计测量了薄膜的反射光谱，并进一步确定了薄膜颜色在 L*a*b* 色度坐标中的位置，研究了氮分压对薄膜颜色的影响，以及 ZrN 薄膜颜色与薄膜成分、结构之间的关系。分析结果表明：在不同的 氮分压下，ZrN 薄膜具有较好的成膜质量；随着氮分压的增加，薄膜沉积速率降低、N 含量增加；薄膜结晶 度先升高后降低、且在氮分压为 10%时，薄膜出现（111）的择优取向；薄膜颜色随薄膜成分结构的改变而 发生明显的变化（颜色由银色向金色、暗金、深褐色以及非本征颜色转变）。当反应气体 N₂分压较低时，分压的增加使得锆与氮更容易键合，导致薄膜中 N 含量增加，使 ZrN 结晶度增大并出现择优取向。当 N₂分 压超过 10%后，薄膜中多余的氮处于晶格的间隙位置，使得薄膜晶格间距变大且结晶度降低，薄膜成分结构的改变导致了薄膜颜色的变化。