衬底温度对脉冲激光沉积法制备的CuO 薄膜性能的影响

作者:向玉春(咸阳职业技术学院,陕西西安712000)

关键词:氧化铜;脉冲激光沉积;衬底温度;导电类型;电阻率

摘要:

通过脉冲激光沉积的方法在玻璃衬底上制备CuO 薄膜,并研究了衬底温度对薄膜结构,光学以及电学性能的影响。结果表明:在不同衬底温度下得到的薄膜均为CuO,并且在红外区域,薄膜的透过 率均高于65%。温度升高到300℃,具有较高的结晶质量和红外光透过率,薄膜的电学性能也随之变好,出现最低电阻(2.33×10²Ωcm),较高的载流子浓度5.28×1016 1/cm³。最重要的是在500℃时氧化铜实现了由p 型向n 型的转变。

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