利用直流磁控溅射技术（DCMS）制备锐钛矿TiO₂ 薄膜，研究了工艺参数中的衬底温度、压强和 溅射功率对TiO₂ 薄膜的沉积速率的影响，利用场发射扫描电镜（FESEM）、X 射线衍射仪（XRD）和椭圆偏振光测试仪表征了样品的表面形貌、结构和膜厚，实验结果表明：利用DMS 制备薄膜为单一的的锐钛矿结构，表面组成颗粒均匀。随着沉积温度的增加，薄膜的沉积速率从100℃的2.16nm/min 增加至400℃的4.03nm/min；压强增加，薄膜的沉积速率降低，0.75Pa、1.5Pa 和3.0Pa 条件下的沉积速率分别为4.48nm/min、3.18nm/min 和2.42nm/min；溅射功率增加，沉积速率提高，100W、295W 和443W 对应的沉积速率分别为2.95nm/min、3.18nm/min 和7.50nm/min。最后用TFC 膜系设计软件在玻璃基底上设计了双层TiO₂ 薄膜，利用设计结果制备了薄膜，实验值和理论设计结果非常吻合。