采用射频反应磁控溅射技术，在不同气压下制备了二硫化钼薄膜。利用扫描电子显微镜、X 射线衍射仪、紫外可见光光谱仪等对薄膜的表面形貌、结构和光学性能进行了表征、分析。结果表明：利用 射频反应磁控溅射制备的MoS₂薄膜，表面平整、颗粒均匀、致密，缺陷少；沉积气压1.2Pa 条件下制备的薄膜结晶度最好；薄膜的光学带隙随沉积气压先增大后减小，1.2Pa 时光学带隙最大，为1.69eV。薄膜光学带隙的变化是由沉积气压引起薄膜结晶度变化和形成缺陷不同所致。