PVD、CVD 涂层行业发展了多年，出现了多种等离子体和高能束辅助技术，但常用的工业涂层 却集中在少数几种材料上，如金属氮化物、碳膜等。本文从材料的成分宽容性、结构稳定性、导电性三个 基本原则出发，解释了薄膜材料的选材问题，并以氮化钛、非晶硼化物、金属掺杂类金刚石涂层为例，说明薄膜材料的选择源自工艺特性和材料性能二者的平衡，且以工艺性为主导。材料成分需要进行精确调控，以达到最佳的工艺性与性能的匹配，而成分根源是化学近程序结构，通过引入本课题组所提出并发展的团簇加连接原子模型，构建出类似于分子式的局域结构单元和相应成分式，进而对薄膜材料进行成分设计。