作者:高 超,张吉峰,唐 榕 (北京真空电子科技有限公司,北京 100016)
关键词:石墨烯;CVD;温度控制;反应室压力调节;闭环控制
本文介绍了应用于石墨烯制备的 CVD 反应炉的工艺原理及技术特点,并以一台已经研制成功的 CVD 反应炉为例,详细阐述了该设备的相关设计思路及特点。该设备采用先进的控温技术控制加热器的快速升温,通过闭环控制实现了工艺过程中腔室压力的自动控制,具有控制精度高、响应快、一致性好等优点。
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