采用直流磁控溅射方法制备出铒（Er）薄膜，利 用 X 射线衍射 仪（XRD）和扫描 电子显微 镜 （SEM）研究了溅射功率对 Er 薄膜微观结构的影响。结果表明：在溅射功率 20W～60W 的范围内，Er 薄膜均为 hcp 结构，且呈现明显的（110）晶面择优取向的微观织构。Er 薄膜生长呈现柱状晶模式，随着溅射功率的增加，柱状晶组织相应长大，薄膜结构更加致密，表面更为平整，其平均晶粒尺寸 7.7nm～9.6nm，表面粗糙度最低 2.1nm。磁控溅射方法制备的 Er 薄膜与电子束蒸发等方法制备的 Er 薄膜相比具有不同的微观结构特征。