为提高钛合金材料抗冲蚀性能，利用真空阴极电弧沉积技术在 TC11 钛合金上沉积 CrAlN 涂 层，研究靶电流、偏压和气压对涂层结构及性能的影响。采用扫描电镜观察膜层表面和截面形貌，金相显 微镜对表面的大颗粒进行定量分析；显微硬度计测量膜层的维氏显微硬度；采用喷砂试验机对涂层的抗 冲蚀性能进行测试，通过三维表面轮廓仪测量涂层厚度和侵蚀坑的深度；X 射线衍射仪表征涂层中的晶体结构。结果表明：靶电流从 70A 增大到 110A，虽可提高涂层的沉积速率，但会导致涂层表面大颗粒增 加，从而降低涂层的抗冲蚀性能；气压从 1Pa 增大至 4Pa，可有效地减少涂层表面颗粒的尺寸及数量，但 也会一定程度降低沉积速率及硬度；偏压对 CrAlN 涂层的结构及性能影响最大，偏压在 -50V 时涂层呈 （200）择优取向，-100V 涂层呈（111）择优取向，-200V 时，涂层择优取向不明显；且随着偏压的增加，涂层的硬度及抗冲蚀性能增大，在高冲蚀角下，冲蚀的失效机理为脆性失效。结论：工艺参数中靶电流对表面质量的影响最大；涂层的生长取向与偏压密切相关；CrAlN 涂层的表面质量及硬度直接影响其抗砂粒冲 蚀性能，偏压对涂层抗冲蚀性能影响最大。最终优化的工艺参数为：靶电流 90A、偏压 -100V、气压 4Pa。