316LN 异型真空盒超高真空表面处理工艺的研究

作者:邢银龙 ¹²,吴杰峰¹,刘志宏 ¹,李 波 ¹,周能涛 ¹(1.中国科学院等离子体物理研究所,安徽 合肥 230031;2.中国科学技术大学,安徽 合肥 230036)

关键词:异型真空盒;超高真空;表面处理;工艺

摘要:

第三代同 步辐射 光源在不 同位置需 要设计 不同形状 的真空腔 体保证 电子 束 在超 高 真空 (< 1 . 3×10E-8Pa)环境下运行。其中异型真空腔体作为第三代同步辐射装置的关键部件之一其制造过程中非常关键问题就是材料的表面处理。然而,针对 316LN 异型真空盒超高真空的表面处理工艺国内外还没有公开的发表过,对于 316LN 异型真空盒超高真空的表面处理工艺的研究工作也鲜有报道。因此,本文针对 316LN 异型真空盒超高真空表面处理工艺提出合理的工艺方案,针对 316LN 异型真空盒的表面处理工艺设计并组建一套完整的四极质谱残余气体检测分析系统,为 316LN 异型真空盒超高真空表明处理的研究提供理论依据。

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