1. 学术期刊
  2. 2019年 56卷 2期
  3. 脉冲负偏压对直流磁控溅射碳膜结构和性能的影响
  1. 联系我们 行业资讯

脉冲负偏压对直流磁控溅射碳膜结构和性能的影响

作者：刘 婵，王东伟，李晓敏，武英桐，黄美东（天津师范大学物理与材料科学学院，天津 300387）

关键词：磁控溅射;碳膜;脉冲负偏压;硬度

摘要：

通过直流磁控溅射技术在基体（硅片、高速钢、钢片）上沉积碳膜。保持其它工艺参数基本恒定，探究薄膜在 100V-400V 脉冲负偏压下，结构和性能的变化规律。实验结果表明，这种碳膜为非晶态硬质薄膜，具有较好表面形貌，且随着脉冲偏压数值的逐渐增加，其厚度、沉积速率和硬度均呈现先增大后减小的趋势，而摩擦系数则先减小后增大。当脉冲负偏压为 200 V 时，薄膜具有最佳的力学性能。

全文：

PDF地址

---------------------沈阳真空杂志---------------------


长按识别二维码关注我们


地址：沈阳市沈河区万柳塘路2号 邮编：110042
电话：（024）24134406 24110136 24121929
传真：（024） 24121929 E-mail:zkzk1964@126.com
Copyright @ 2018 vacuumjour.com Inc. All rights reserved.
<<真空>>杂志社 版权所有