小型化磁质谱仪离子源的模拟及优化设计

作者:张礼朋¹ ,董猛² ,成永军²,吴海燕 ¹ ,钱洁¹,张曙光¹,张英军 ¹,葛赛金 ¹,李晓旭¹ (1.苏州大学机电工程学院,江苏 苏州 215021;2.兰州空间技术物理研究所 真空技术与物理重点实验室,甘肃 兰州 730000)

关键词:电子轰击离子源;离子推斥极;恒压跟踪;聚焦性能;离子传输效率

摘要:

电子轰击离子源(Electron Impact Ion Source,EI 源)作为小型化磁质谱仪的核心部件之一,其性能指标直接影响质谱仪器的质量分辨率与灵敏度。本文对小型化 EI 源的结构和电压驱动方式进行了改进和优化,旨在提升 EI 源的综合性能。采用离子光学模拟软件 simion-8.0 构建了小型化 EI 源的三维模型,重点研究几何参数、离子推斥极结构以及驱动 EI 源的电压参数对离子聚焦性能和离子传输效率的影响。通过模拟离子的运动轨迹,得到离子的运动参数,同时利用相空间法,分析 EI 源的离子聚焦效果和离子传输效率。理论模拟结果表明:当聚焦极与电离室距离 S 1 为 1.2mm,主狭缝与聚焦极距离 S 2 与 S 1 的比值为 1.6,主狭缝缝宽 S 3 为 2mm,推斥极为圆弧结构,且聚焦透镜和主狭缝透镜通过扫描高压恒压跟踪驱动方式时,离子的位置聚焦半径小于 0.08mm,离子传输效率可达到 99%以上。研究表明:经过几何参数、推斥极结构优化和电压驱动方式改进后的 EI 源,可大幅提高离子传输效率,提升聚焦效果,并能在全质量范围内保持离子聚焦性能稳定,上述特性使其在小型化磁质谱仪开发中具有显著优势。

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