采用电子束热蒸发技术，用不同沉积速率制备了 TiO₂ 薄膜。根据透射率谱计算了薄膜的光学带隙，采用椭偏法测量了薄膜的折射率、消光系数及厚度，分析了薄膜内部的电场强度分布，对其激光损伤特性进行了研究。结果表明，在所研究的工艺参数范围内，TiO₂ 薄膜的光学带隙比较稳定，随沉积速率的变化并不显著，其值大小在 3.95eV -3.97eV。当沉积速率从 0.088nm/s，0.128nm/s 增加到 0.18nm/s 时，薄膜折射率从 1.9782，1.9928，升高到 2.0021（波长 1064nm），但当沉积速率继续增加到 0.327nm/s 时，折射率反而降低到 1.9663，薄膜的消光系数随着沉积速率的增加单调增加。采用同一高能激光损伤薄膜后，当沉积速率较低时制备薄膜的损伤斑大小基本一致，但以 0.327nm/s 较高速率制备的薄膜，其损伤斑明显增大。高沉积速率下制备的 TiO₂ 薄膜的吸收较大，激光损伤阈值较低。